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在掃描電鏡（SEM）中，能譜圖（EDS 或 EDX 圖）顯示的是樣品中不同元素對(duì)入射電子束響應(yīng)所產(chǎn)生的特征 X 射線的強(qiáng)度與能量的關(guān)系。通過(guò)分析這些特征 X 射線的能量位置（峰的位置），就可以判斷樣品中含有哪些元素。

以下是具體的判斷方法：

第一步：觀察能譜圖橫軸和縱軸

橫軸是能量（keV），表示 X 射線的能量；

縱軸是強(qiáng)度（counts），表示每個(gè)能量下探測(cè)到的 X 射線數(shù)量。

第二步：識(shí)別特征峰位置

每種元素在特定能量處有其特征 X 射線峰，稱(chēng)為“K、L、M 系列峰”。

例如：

碳（C）Kα 峰：約 0.28 keV

氧（O）Kα 峰：約 0.52 keV

鐵（Fe）Kα 峰：約 6.40 keV，Kβ：約 7.06 keV

銅（Cu）Kα 峰：約 8.04 keV

金（Au）Mα 峰：約 2.12 keV

能譜圖中出現(xiàn)的每一個(gè)清晰峰位，通常就對(duì)應(yīng)一個(gè)特定元素的存在。

第三步：使用軟件自動(dòng)匹配元素

SEM 的能譜分析軟件通常帶有自動(dòng)元素識(shí)別功能：

系統(tǒng)會(huì)根據(jù)峰位位置自動(dòng)列出可能對(duì)應(yīng)的元素；

用戶(hù)可以手動(dòng)確認(rèn)或修改識(shí)別結(jié)果；

軟件還可提供每種元素的相對(duì)含量（半定量分析）。

第四步：注意干擾峰和偽峰

有時(shí)兩個(gè)元素的峰位很近，可能會(huì)重疊或干擾，比如：

硅（Si）Kα：1.74 keV 與金（Au）Mα：2.12 keV 較近；

錳（Mn）Kα 和鐵（Fe）Kβ 也容易混淆。

此時(shí)應(yīng)結(jié)合樣品背景、材料信息或使用標(biāo)準(zhǔn)樣本進(jìn)行校對(duì)。